概覽
SPIE先進光刻展在美國聖何塞的San Jose McEnery Convention Center舉辦，聚焦先進光刻與圖形化工藝，服務半導體產業的新興技術與工程研究。展會面向專業觀眾，每年一屆。
屆次
- 2028約2028年2月
- 20272027年2月21日–25日
- 20262026年2月22日–26日
場館
150 West San Carlos Sreet
主辦方
SPIE國際光學工程學會
美國20 場展會
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主辦：SPIE國際光學工程學會
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主辦：Select全球活動
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主辦：英富曼市場
2027年7月11日–14日DAC設計自動化會議
DAC (Design Automation Conference)
主辦：MP合夥人公司
常見問題
SPIE先進光刻展 什麼時候舉辦？
下一屆於 2027年2月21日–25日 舉辦。
SPIE先進光刻展 在哪裡舉辦？
舉辦地點是 聖何塞麥肯納裡會議中心，位於 聖何塞，美國。
SPIE先進光刻展 多久舉辦一次？
舉辦週期：每年一屆。
SPIE先進光刻展 面向哪些觀眾？
面向專業觀眾。
如何聯絡 SPIE先進光刻展 的主辦方？
主辦方是 SPIE國際光學工程學會。