SPIE光掩模技術與極紫外光刻展

Name: SPIE光掩模技術與極紫外光刻展 2027
Start: 2027-09
End: 2027-09
Location: 蒙特雷會議中心

SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography

年度專業觀眾

概覽

SPIE光掩模技術與極紫外光刻展每年在美國蒙特雷的Monterey Conference Center舉辦。展會面向掩膜行業的採購商與供應商，涉及元器件、軟體與製造裝置，以及光電子和微納技術。

會展中心

5 場展會

One Portola Plaza, Monterey, CA 93940

SPIE光掩模技術與極紫外光刻展什麼時候舉辦？

下一屆於 2027年9月舉辦。

SPIE光掩模技術與極紫外光刻展在哪裡舉辦？

舉辦地點是蒙特雷會議中心，位於蒙特雷，美國。

SPIE光掩模技術與極紫外光刻展多久舉辦一次？

舉辦週期：每年一屆。

SPIE光掩模技術與極紫外光刻展面向哪些觀眾？

面向專業觀眾。

如何聯絡 SPIE光掩模技術與極紫外光刻展的主辦方？

主辦方是 SPIE國際光學工程學會。