SPIE光掩模技术与极紫外光刻展

Name: SPIE光掩模技术与极紫外光刻展 2027
Start: 2027-09
End: 2027-09
Location: 蒙特雷会议中心

SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography

年度专业观众

概览

SPIE光掩模技术与极紫外光刻展每年在美国蒙特雷的Monterey Conference Center举办。展会面向掩膜行业的采购商与供应商，涉及元器件、软件与制造设备，以及光电子和微纳技术。

会展中心

5 场展会

One Portola Plaza, Monterey, CA 93940

SPIE光掩模技术与极紫外光刻展什么时候举办？

下一届于 2027年9月举办。

SPIE光掩模技术与极紫外光刻展在哪里举办？

举办地点是蒙特雷会议中心，位于蒙特雷，美国。

SPIE光掩模技术与极紫外光刻展多久举办一次？

举办周期：每年一届。

SPIE光掩模技术与极紫外光刻展面向哪些观众？

面向专业观众。

如何联系 SPIE光掩模技术与极紫外光刻展的主办方？

主办方是 SPIE国际光学工程学会。