概览
SPIE先进光刻展在美国圣何塞的San Jose McEnery Convention Center举办，聚焦先进光刻与图形化工艺，服务半导体产业的新兴技术与工程研究。展会面向专业观众，每年一届。
届次
- 2028约2028年2月
- 20272027年2月21日–25日
- 20262026年2月22日–26日
场馆
150 West San Carlos Sreet
主办方
SPIE国际光学工程学会
美国20 场展会
相关展会
约 9月SPIE光掩模技术与极紫外光刻展
SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography
主办：SPIE国际光学工程学会
2025年11月12日–13日Electronica纽约电子展
Electronica Expo New York
主办：United展览公司
2026年10月27日–29日北美磁性技术展
The Magnetics Show North America
主办：Select全球活动
2026年11月18日–19日Medevice硅谷医疗器械展
Medevice Silicon Valley
主办：英富曼市场
2027年7月11日–14日DAC设计自动化会议
DAC (Design Automation Conference)
主办：MP合伙人公司
常见问题
SPIE先进光刻展 什么时候举办？
下一届于 2027年2月21日–25日 举办。
SPIE先进光刻展 在哪里举办？
举办地点是 圣何塞麦肯纳里会议中心，位于 圣何塞，美国。
SPIE先进光刻展 多久举办一次？
举办周期：每年一届。
SPIE先进光刻展 面向哪些观众？
面向专业观众。
如何联系 SPIE先进光刻展 的主办方？
主办方是 SPIE国际光学工程学会。